Med običajne elektronske pline, ki vsebujejo fluor, spadajožveplov heksafluorid (SF6), volframov heksafluorid (WF6),ogljikov tetrafluorid (CF4), trifluorometan (CHF3), dušikov trifluorid (NF3), heksafluoroetan (C2F6) in oktafluoropropan (C3F8).
Z razvojem nanotehnologije in obsežnim razvojem elektronske industrije se bo povpraševanje po njem povečevalo iz dneva v dan. Dušikov trifluorid kot nepogrešljiv in največkrat uporabljen poseben elektronski plin pri proizvodnji in predelavi plošč in polprevodnikov ima širok tržni prostor.
Kot vrsta posebnega plina, ki vsebuje fluor,dušikov trifluorid (NF3)je elektronski posebni plin z največjo tržno zmogljivostjo. Pri sobni temperaturi je kemično inerten, pri visoki temperaturi aktivnejši od kisika, stabilnejši od fluora in enostaven za uporabo. Dušikov trifluorid se uporablja predvsem kot plin za plazemsko jedkanje in čistilo za reakcijske komore ter je primeren za proizvodnjo polprevodniških čipov, ravnih zaslonov, optičnih vlaken, fotonapetostnih celic itd.
V primerjavi z drugimi elektronskimi plini, ki vsebujejo fluor,dušikov trifluoridIma prednosti hitre reakcije in visoke učinkovitosti. Še posebej pri jedkanju materialov, ki vsebujejo silicij, kot je silicijev nitrid, ima visoko hitrost jedkanja in selektivnost, ne da bi pustil ostanke na površini jedkanega predmeta. Je tudi zelo dobro čistilo in ne onesnažuje površine, kar lahko zadosti potrebam procesa obdelave.
Čas objave: 14. september 2024
