Ogljikov tetrafluorid (CF4)

Tehnični parametri

Ogljikov tetrafluorid je halogenirani ogljikovodik s kemijsko formulo CF4.Lahko ga obravnavamo kot halogeniran ogljikovodik, halogeniran metan, perfluoroogljikovodik ali kot anorgansko spojino.Ogljikov tetrafluorid je plin brez barve in vonja, netopen v vodi, topen v benzenu in kloroformu.Stabilen pri normalni temperaturi in tlaku, izogibajte se močnim oksidantom, vnetljivim ali gorljivim materialom.Negorljiv plin, notranji tlak posode se poveča, ko je izpostavljen visoki vročini, in obstaja nevarnost pokanja in eksplozije.Je kemično stabilen in negorljiv.Pri sobni temperaturi lahko deluje le tekoči kovinski reagent amoniak-natrij.Ogljikov tetrafluorid je plin, ki povzroča učinek tople grede.Je zelo stabilen, lahko ostane v ozračju dolgo časa in je zelo močan toplogredni plin.Ogljikov tetrafluorid se uporablja v procesu plazemskega jedkanja različnih integriranih vezij.Uporablja se tudi kot laserski plin in se uporablja v nizkotemperaturnih hladilnih sredstvih, topilih, mazivih, izolacijskih materialih in hladilnih tekočinah za infrardeče detektorje.Je najbolj uporabljen plin za plazemsko jedkanje v industriji mikroelektronike.Je mešanica plina visoke čistosti tetrafluorometana in plina visoke čistosti tetrafluorometana ter kisika visoke čistosti.Lahko se široko uporablja v siliciju, silicijevem dioksidu, silicijevem nitridu in fosfosilikatnem steklu.Jedkanje tankoslojnih materialov, kot sta volfram in volfram, se pogosto uporablja tudi pri površinskem čiščenju elektronskih naprav, proizvodnji sončnih celic, laserski tehnologiji, nizkotemperaturnem hlajenju, pregledu puščanja in detergentih v proizvodnji tiskanih vezij.Uporablja se kot nizkotemperaturno hladilno sredstvo in tehnologija plazemskega suhega jedkanja za integrirana vezja.Varnostni ukrepi pri skladiščenju: Hraniti v hladnem, prezračenem skladišču negorljivega plina.Hraniti stran od ognja in virov toplote.Temperatura skladiščenja ne sme presegati 30°C.Hraniti ga je treba ločeno od lahko (vnetljivih) gorljivih snovi in ​​oksidantov ter se izogibati mešanemu skladiščenju.Skladišče mora biti opremljeno z opremo za nujno zdravljenje uhajanja.

Uporaba:

① Hladilno sredstvo:

Tetrafluorometan se včasih uporablja kot nizkotemperaturno hladilno sredstvo.

② Jedkanje:

Uporablja se v mikroizdelavi elektronike sam ali v kombinaciji s kisikom kot plazemsko jedkalo za silicij, silicijev dioksid in silicijev nitrid.

Običajni paket:

Prednost:

①Visoka čistost, najnovejši objekt;

②Proizvajalec certifikata ISO;

③Hitra dostava;

④Sistem za spletno analizo za nadzor kakovosti v vsakem koraku;

⑤ Visoke zahteve in natančen postopek za ravnanje z jeklenko pred polnjenjem;