Laserski plin se v elektronski industriji uporablja predvsem za lasersko žarjenje in litografijo. Zaradi inovacij na področju zaslonov mobilnih telefonov in širitve področij uporabe se bo obseg trga nizkotemperaturnega polisilicija še povečal, postopek laserskega žarjenja pa je znatno izboljšal delovanje TFT-jev. Med neonskimi, fluorovimi in argonskimi plini, ki se uporabljajo v ArF eksimernem laserju za izdelavo polprevodnikov, neon predstavlja več kot 96 % mešanice laserskih plinov. Z izpopolnjevanjem polprevodniške tehnologije se je uporaba eksimernih laserjev povečala, uvedba tehnologije dvojne osvetlitve pa je povzročila močno povečanje povpraševanja po neonskem plinu, ki ga porabljajo ArF eksimerni laserji. Domači proizvajalci bodo imeli v prihodnosti zaradi spodbujanja lokalizacije specialnih elektronskih plinov boljše možnosti za rast na trgu.
Litografski stroj je osrednja oprema v proizvodnji polprevodnikov. Litografija določa velikost tranzistorjev. Usklajen razvoj litografske industrijske verige je ključ do preboja litografskih strojev. Ujemajoči se polprevodniški materiali, kot so fotorezist, fotolitografski plin, fotomaska ter oprema za premaze in razvijanje, imajo visoko tehnološko vrednost. Litografski plin je plin, s katerim litografski stroj ustvarja globoki ultravijolični laser. Različni litografski plini lahko proizvajajo svetlobne vire različnih valovnih dolžin, njihova valovna dolžina pa neposredno vpliva na ločljivost litografskega stroja, ki je eno od jeder litografskega stroja. Leta 2020 bo skupna svetovna prodaja litografskih strojev znašala 413 enot, od tega 258 enot ASML predstavlja 62 %, 122 enot Canona 30 % in 33 enot Nikona 8 %.
Čas objave: 15. oktober 2021
